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 제목 |  Semicon china 2018 전시회 참가
 작성자 |  Admin   작성일 |  2018/03/17 12:41 pm
󰊱 개요

❍ 전시회명 : Semicon China 2018 (중국 상하이 반도체 전시회)
❍ 개최기간 : 2018. 3. 14(수) ~ 3. 16(금) / 3일간
❍ 개최장소 : Shanghai New International Expo Center (SNIEC)
❍ 개최연혁 : 1988년부터 2018년 31회째
❍ 참 관 객 : (예상) 50,000명
❍ 전시분야 : 반도체 제조장비, 제조기술, 기초재료, 가공기술, 크린룸, 측정테스터,
어셈블리장비, 하이브리드장비, 포장재료 및 기술, 전자설계 등

❍ 소로나 부스 위치 : Hall N5 한국관
❍ 소로나 부스 번호 : 5221

※ 주요품목

1. ETCHER(SIE-1204)
● LED PSS Etcher
● 1290(W) x 2700(D) x 2050(H)
● 4inch wafer 12pocket Tray
● ATM LL & TM with Buffer chamber
● Planer ICP and Center pumping configuration
● Uniformity : <±3% @ 12wafers WTW & BTB
● Capacity(4inch 2.8x1.8) : 390매 (Daily), 11,860매(Monthly)

2. PECVD(PEH-600)
● 4inch wafer 3장 동시 증착
● SiO2 Deposition
- RI : 1.46
- Dep rate : >1200Å/min
- Uniformity : <±2% @ 3wafers WTW & BTB
- BOE(6:1) Etch rate : <2500Å/min @ 250℃ Table temp
● Si3N4 Deposition
- RI : 2.0
- Stress : < 100MPa
- Uniformity : <±2% @ 3wafers WTW & BTB
- BOE(6:1) Etch rate : <800Å/min

3. SPUTTER(SRN-110)
● Multi target Sputter and Direct sputter for variable thin film deposition
● AlN Sputter for UVC LED
● LTS Sputter for <1um Via hole
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